중국으로 유출된 한국 기술 72% 육박
반도체·디스플레이 핵심 기밀도 포함
내부자 셔터 한 번에 수년 연구가 증발

“중국이 왜 저렇게 빠르게 따라오는지 이제 알겠다.”, “몇 조 들여서 개발한 기술을 한순간에 넘겨준 셈이네.”
“HBM 핵심기술 통째로”…사진까지 찍어 유출한 직원
지난 7일, SK하이닉스 중국 현지법인에서 근무하던 직원 A씨가 회사의 핵심 반도체 기술을 빼돌린 혐의로 구속 기소됐다. 그가 유출한 자료는 무려 1만1천여 장. 단순한 복사나 출력이 아닌, 사진 촬영까지 동원한 치밀한 수법이었다.
더 큰 충격은 그 내용에 있었다. 유출된 자료엔 인공지능(AI)용 고대역폭 메모리(HBM) 구현에 필수적인 ‘하이브리드 본딩’ 기술이 포함돼 있었다.
심지어 일부 문서에서는 회사 로고와 ‘대외비’ 표시가 의도적으로 삭제된 흔적까지 포착됐다. 사전에 준비된 정황이 뚜렷한, 치밀하고 조직적인 유출이었다.

또 조사 결과, A씨는 중국 최대 통신장비 업체 화웨이의 자회사로부터 이직 제안을 받은 뒤, SK하이닉스의 영업비밀을 활용해 작성한 이력서를 중국 기업 두 곳에 제출한 것으로 드러났다. 사실상 기술을 담보로 스카우트를 받은 셈이다.
이에 검찰은 이번 사건을 두고 “국가 산업 경쟁력을 위협하는 중대한 범죄”라며 강경 대응을 예고했다.
해외 유출 10건 중 7건은 ‘중국행’…국가핵심기술도 줄줄이 뚫렸다
한편, 이번 사건은 최근 급증하고 있는 기술 유출 사례 중 하나에 불과하다. 2024년 1월부터 10월까지 적발된 해외 기술 유출 건수만 해도 25건에 달하며, 이 중 72%인 18건이 중국과 직접적으로 연결돼 있었다.
분야별로는 디스플레이 8건, 반도체 7건 등 첨단 제조업이 전체의 60% 이상을 차지했다.

특히 전년 대비 5배나 늘어난 10건은 ‘국가핵심기술’로 지정된 기술이었다. 산업계를 넘어 국가 안보를 직접 위협하는 수준이라는 분석이 나온다.
기술 유출 수법도 날로 교묘해지고 있다. 지난해 1월에는 중국 배터리 기업 Svolt가 삼성SDI와 SK온의 기술을 빼돌린 혐의로 전·현직 직원 5명이 검찰에 넘겨졌다.
또 같은 해에는 삼성전자 전 임원이 18나노·20나노급 D램 공정 설계도면을 외부로 유출해, 중국 지방정부와 합작 법인을 설립하려다 적발됐다.
그가 넘긴 기술에는 온도와 압력 등 700여 단계로 구성된 미세 공정 정보가 포함돼 있어, 경쟁국 입장에선 수년치 연구개발 성과를 단숨에 손에 넣은 셈이었다.

또, 그보다 앞선 2021년에는 국내 디스플레이 자동화 기술이 중국으로 넘어가며 최대 2,400억 원 규모의 피해가 발생한 것으로 조사됐다.
보안망도 뚫는 ‘내부자 리스크’…법만으론 못 막는다
정부는 산업기술유출방지보호법과 대외무역법 등을 보완하며 제도적 대응을 강화하고 있지만, 기술 보호는 법만으로는 부족하다. 아무리 촘촘한 보안망도 내부자의 결정적 배신 앞에선 무력해진다.
기술 한 번 새나가면 기업은 물론, 국가 전체 산업 기반이 흔들릴 수 있다. 빠르게 추격해오는 중국의 기술력에 맞서기 위해선 지금보다 훨씬 더 정밀하고 선제적인 대응이 절실하다. 더 이상 늦기 전에, 생존을 위한 싸움에 나서야 한다.
자식이뮐배울까 ㅡ신상공개안하나. 중국처럼
사업장을 미국으로 옮기는게 회사가 사는 길.
중국사람 이리보고 저리보자
자세히 살펴보자 포스터문구라도 만들어야 할듯